Cựu nhân viên SK Hynix bị phạt tù vì làm rò rỉ thông tin cho một công ty Trung Quốc (Theo Yonhap)

SEOUL, ngày 9 tháng 8 Tòa án đã tuyên phạt 18 tháng tù giam đối với một cựu nhân viên của tập đoàn SK Hynix vì hành vi làm rò rỉ thông tin công nghệ sản xuất bán dẫn cho một công ty Trung Quốc, hãng thông tấn Yonhap đưa tin vào hôm Chủ Nhật.

Logo của nhà sản xuất chất bán dẫn và chip nhớ SK Hynix trong lần ra mắt trên thị trường Nasdaq tại thành phố New York, Mỹ

Tòa án Cấp cao Seoul đã đưa ra phán quyết trong phiên phúc thẩm đối với bị cáo, qua đó giữ nguyên mức án của tòa cấp dưới. Bị cáo bị kết tội làm rò rỉ các thông tin mật về công nghệ cảm biến hình ảnh CMOS một công nghệ được sử dụng cho các chip phi bộ nhớ trong camera điện thoại thông minh và máy tính xách tay cho một công ty Trung Quốc vào năm 2022, theo Yonhap.

Hội đồng xét xử xác định rằng cựu nhân viên này, người từng làm việc tại văn phòng của SK Hynix ở Trung Quốc, đã in ra hoặc chụp ảnh lại các tài liệu chứa bí mật thương mại được tải xuống từ máy chủ nội bộ của công ty. Hành vi này đã vi phạm nghiêm trọng các quy định an ninh mạng của tập đoàn.

Bị cáo cũng đã tiết lộ một phần thông tin này trong hồ sơ xin việc (CV) gửi tới công ty Trung Quốc nói trên, Yonhap cho biết thêm nhưng không công bố tên cụ thể của doanh nghiệp Trung Quốc này.

Theo báo cáo, người đàn ông này đã thừa nhận toàn bộ các cáo buộc và hầu hết các thông tin bị lấy cắp đều đã được SK Hynix thu hồi thành công. Tòa án Cấp cao Seoul hiện chưa đưa ra bình luận tức thì nào trước yêu cầu từ Reuters ngoài giờ làm việc.